光柵尺作為機床位移精密傳感測量組件，核心光柵柵條、感光解碼芯片、信號傳輸光路對切削油污、金屬粉塵、機械水汽雜質高度敏感，污染物附著會引發光路遮擋、柵條腐蝕、信號解碼失真、尺體滑動卡滯故障，防護罩結構化設計搭配全域防油污工藝管控措施，是維系測量精度、延長光學核心組件壽命、降低機床數顯故障運維頻次的核心配套設計。 光柵尺防護罩采用內外雙層分體防護架構設計，外層為硬質合金一體折彎防護外罩，抗機床切屑撞擊、機械磕碰形變損傷，貼合機床滑臺往復運動行程做隨動式一體化裝配，適配動態位移工況；內層布設柔性聯動密封防塵裙邊，貼合尺體滑動端面無縫貼合封堵，適配尺體往復滑移運動，無運動卡滯阻力。防護罩邊角采用圓弧導流結構設計，規避直角結構油污、鐵屑沉降堆積死角，優化污染物自主滑落導流能力；整體采用卡扣分體裝配結構，無需拆解本體即可完成防護罩拆裝檢修、雜質清理。
全域配套復合型防油污管控措施，尺體金屬基底、防護罩內壁做疏水疏油表層改性工藝，弱化切削乳化油、潤滑油膜吸附附著力，減少油膜覆膜富集；尺體兩端密封端蓋增設多層迷宮式阻油溝槽，截留超細油霧懸浮介質，阻斷氣態油霧滲入光學核心腔體。機床油路布設遠離光柵尺裝配工位，規避高壓噴油直淋尺體區域；配套微量干式除塵輔構隨動清理尺體表層細碎鐵屑與薄油膜。同時優化防護罩裝配傾角，依托機床加工震動實現表層油污、碎屑自主滑落沉降，從結構、工藝、裝配三維度阻斷油污侵入與附著隱患。
